簡(jiǎn)要描述：安捷倫ZORBAX Eclipse XDB色譜柱Agilent ZORBAX Eclipse XDB 色譜柱（C18、C8、苯基和氰基）提供四種鍵合相固定相，用于方法開(kāi)發(fā)優(yōu)化。這些色譜柱可在寬 pH 范圍內(nèi) （2-9） 提供良好的峰形，為采用同一系列色譜柱的方法開(kāi)發(fā)提供更大靈活性。
產(chǎn)品型號(hào)：廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時(shí)間：2025-02-14訪 問(wèn) 量：1337產(chǎn)品目錄Product center
| 品牌 | Agilent/安捷倫 | 供貨周期 | 現(xiàn)貨 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 生物產(chǎn)業(yè) |
安捷倫ZORBAX Eclipse XDB色譜柱
Agilent ZORBAX Eclipse XDB 色譜柱（C18、C8、苯基和氰基）提供四種鍵合相固定相，用于方法開(kāi)發(fā)優(yōu)化。這些色譜柱可在寬 pH 范圍內(nèi) (2-9) 提供良好的峰形，為采用同一系列色譜柱的方法開(kāi)發(fā)提供更大靈活性。Eclipse XDB 柱可以在低 pH (2-3) 下用于方法開(kāi)發(fā)，也可以在中 pH (6-8) 范圍內(nèi)進(jìn)行方法開(kāi)發(fā)。在中 pH 范圍內(nèi)，殘留硅醇基活性更大，更容易發(fā)生造成拖尾的相互作用。為了克服這種相互作用，Eclipse XDB 色譜柱采用工藝進(jìn)行超密鍵合和雙封端，以盡可能多地覆蓋活性硅醇基。堿性化合物在 pH 2-9 的范圍內(nèi)具有出色的峰形。Eclipse XDB 柱有 1.8、3.5、5 和 7 μm 粒徑可供選擇，適用于高速、高分離度、分析級(jí)和制備級(jí)分離。
有四種選擇性可用于方法開(kāi)發(fā)優(yōu)化
對(duì)堿性、酸性和中性化合物都有較佳的峰形
在寬 pH 范圍內(nèi) (pH 2-9) 具有高性能
填料粒徑范圍從 1.8 μm 到 7 μm
超密鍵合 (XDB) 和雙封端使壽命更長(zhǎng)
Eclipse XDB-CN 比 ZORBAX Rx-Sil 平衡速度更快，可用于許多相同的正相應(yīng)用
性能指標(biāo)
Eclipse XDB 色譜柱可在低 pH (2-3) 條件下用于初始方法開(kāi)發(fā)，對(duì)所有類型的化合物均有高分離度和出色的峰形。這款色譜柱也可以在中 pH (6-8) 范圍內(nèi)進(jìn)行方法開(kāi)發(fā)。在中 pH 范圍內(nèi)，殘留硅醇基活性更高，更容易發(fā)生造成拖尾的相互作用。為了克服這種相互作用，Eclipse XDB 色譜柱采用工藝進(jìn)行超密鍵合和雙封端，以盡可能多地覆蓋活性硅醇基。堿性化合物在 pH 2-9 的范圍內(nèi)具有出色的峰形。
Eclipse XDB 色譜柱具有 C18、C8、苯基和氰基鍵合相，可為大多數(shù)分離提供蕞佳選擇性，StableBond、Bonus-RP 和 Extend-C18 可提供更多選擇性。Eclipse XDB 色譜柱的填料粒徑范圍從 1.8 μm 到 7 μm — 從 RRHT 柱到制備柱?？焖俜蛛x高通量 (RRHT) 色譜柱具有更寬范圍的色譜柱尺寸，支持高壓使用，可提供蕞短的分析時(shí)間和蕞高的分離度。
| 鍵合相 | 孔徑 | 比表面積 | 溫度上限 | pH 范圍* | 封端 | 碳載量 | 美國(guó)藥典產(chǎn)品 |
| ZORBAX Eclipse XDB-C18 | 80? | 180 m2/g | 60 °C | 2.0 - 9.0 | 雙封端 | 10% | L1 |
| ZORBAX Eclipse XDB-C8 | 80? | 180 m2/g | 60 °C | 2.0 - 9.0 | 雙封端 | 7.60% | L7 |
| ZORBAX Eclipse XDB-Phenyl | 80? | 180 m2/g | 60 °C | 2.0 - 9.0 | 雙封端 | 7.20% | L11 |
| ZORBAX Eclipse XDB-CN | 80? | 180 m2/g | 60 °C | 2.0 - 8.0 | 雙封端 | 4.30% | L10 |
QQ：1919489259
郵箱：dubin@inlucktech.com
傳真：86-010-83893981
地址：北京市朝陽(yáng)區(qū)建國(guó)路15號(hào)院甲1號(hào)華文國(guó)際傳媒大廈
掃一掃 瀏覽網(wǎng)站
©2025 北京英萊克科技發(fā)展有限公司 版權(quán)所有 備案號(hào)：京ICP備13010341號(hào)-2 技術(shù)支持：化工儀器網(wǎng) Sitemap.xml 總訪問(wèn)量：400672 管理登陸